- sub-boiling 次沸點蒸餾技術，減少沸騰產生潑濺汙染
- 有效減少 90% 超純級試劑成本
- 適用多種試劑：HNO3、HCl、HF、H2O、Acetic acid
- 自動補酸、排酸設置，程式一鍵化控制
- 全彩控制面板精確控溫，非傳統檔位式手動旋鈕調節
最高 400 mL/hr 的純化量
（duoPURE）
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非市售產品使用旋鈕調整低中高檔位
HNO3、HCl、HF、H2O、Acetic acid
「沸騰會造成試劑中的金屬離子噴濺，容易汙染純化後的試劑」
相較於傳統市面上使用的熱傳導式純酸系統
我們使用紅外線和緩的加熱液體表面，避免因溫度不均產生沸騰
進而產生「過程穩定且品質更高」的sub-ppt級超純級酸液
一鍵化控制：加酸、排酸
相較於市售純酸裝置，需人員手動補酸，造成酸液潑濺風險
並且在維護儀器的過程中，需要搬運大量酸液與容器
Milestone提供更為安全的純酸使用流程
設備所有酸純化部件與管路，均可拆卸泡酸清潔
相較於市售串聯蒸餾式純酸裝置，需花大量時間清潔及純化
Milestone traceCLEAN 可快速達成半導體超微量應用需求
* 台灣半導體單位推薦使用
除了儀器結構、是否容易清洗、實驗室環境等級…等會影響純化結果
不同的原始試劑也會需要不同的加熱條件（溫度、時間）才能得到更好的結果
「Milestone堅持使用程式調控加熱、自動加排酸、優良的結構設置，來讓您更容易的獲取符合成本效益的超純級試劑」
若有任何技術上疑問，歡迎與我們聯絡。
溫度控制：最小以溫度（1°C）進行調控，並具備防蒸乾熱保護設置
排氣系統：可透過PTFE管路連接至排氣系統，免置於抽氣櫥内防止酸氣腐蝕
控制系統：外接式全彩控制面板，一鍵控制加排酸，並可儲存多筆純化方法
適用試劑：HNO3、HCl、HF、H2O、Acetic acid
溫度控制：最小以功率（1%）進行調控，並具備防蒸乾熱保護設置
排氣系統：可透過PTFE管路連接至排氣系統，免置於抽氣櫥内防止酸氣腐蝕
控制系統：外接式全彩控制面板，一鍵控制加排酸，並可儲存多筆純化方法
適用試劑：HNO3、HCl、H2O、Acetic acid
減少試劑成本
– 次沸點蒸餾技術防止沸騰汙染，有效純化至超純級試劑
– 高產量，有效減少90%的試劑成本
保障人員安全
– 自動化加酸、排酸pump，避免手動裝填產生噴濺
– 搭配排氣管路可安裝於抽氣櫥外，適用無塵室等環境
多樣試劑選擇
– 適用多種試劑：HNO3、HCl、HF、H2O、Acetic acid
– 針對不同等級原液與目標純度，可設置多重純化方案
輕鬆使用軟體
– 友善的使用者介面，輕鬆設定客製化方法
– 非手動旋鈕式檔位設計，精確調控純化方法
