ICP-OES|Analytik Jena|感應耦合電漿原子放射光譜儀

PlasmaQuant®PQ9100系列:市場上解析度最高的 ICP-OES 

• 0.002 nm@200nm 的高光譜解析度

• 熱機 10 - 15 分鐘即可開始分析

• 矩管拆卸安裝方便,自動校正,無需人手調整

• 4 種觀測數據方式,實現不同濃度範圍的各個元素分析需求

• 穩定的高功率電漿激發系統

  • 市場最高光學解析度 0.002nm@200nm
  • 快速進入工作模式:開機僅需 10 – 15 分鐘即可進入最佳工作狀態
  • 雙軸向觀測,同時測定樣品中高低濃度元素
  • MFC 即時氣體調節,隨時保持在穩定工作狀態
AnalytikJena德國耶拿_ICP-OES_PlasmaQuant_9100_利泓科技

PlasmaQuant 9100

感應耦合電漿原子放射光譜儀在品質管控和檢驗單位中的最高標準。

憑藉優異的性能、寬廣的量測濃度範圍和高感度,
進行複雜基質的樣品,保證取得穩定的分析結果。

AnalytikJena德國耶拿_PlasmaQuant_9100_Elite_利泓科技

PlasmaQuant 9100 Elite

市場上最佳解析度的感應耦合電漿原子放射光譜儀。

高解析度降低光譜干擾的機會,不必因為光譜干擾而選擇次靈敏度的發射譜線。結合其基質耐受度和高感度,使過去無法想像的分析潛力得以實現。

最高的解析度+最優異的光學性能 
「提高分析能力是根本,提高解析度是關鍵」

  • 高光譜解析度(0.002 nm@200 nm),顯著提高訊噪比,改善 BEC 背景等效濃度

  • 原裝卡爾‧蔡司光學系統,具有<0.4 pm的波長準確度。

  • 波長範圍涵蓋 160 – 900 nm

  • 提供超過 43,000 條發射譜線
利泓科技_高分辨率ICP–OES_AnalytikJena

雙向觀測同時滿足高低濃度量測 
「無需稀釋&分組測量,實現不同濃度範圍元素分析」

利泓科技_ICP-OES_雙向觀測
利泓科技_ICP-OES_雙向觀測示意圖
  • 頂部軸向 + 側面測向,雙向觀測設計
  • 滿足不同濃度(ppb – %)的同時測量,無需分組稀釋,提升分析效率
  • 最寬的濃度線性工作範圍
  • 另可靈活選擇觀測方式(軸/側向,軸/側向 plus),實現各個元素在不同濃度範圍的分析要求
  • 不額外消耗氬氣,採用冷錐氬氣反吹消除尾焰干擾

輕鬆裝卸矩管,系統自動校正 
「減少準備時間,提升分析效率及準確度」

  • 垂直矩管設計比水平式能減少鹽分及碳粒堆積,提高樣品分析的穩定性
  • 梭式可拆卸設計,搭配內部氣體連結系統,安裝方便即可使用,易用性高
  • V Shuttle Torch 的自動校正功能,確保每次分析的再現性與準確度
  • 兼具維護與耗材成本低及高生產力的設備
利泓科技_ICP-OES_矩管自動定位示意圖

持續穩定輸出的高能量激發系統 
「有效解決複雜基質,增加應用廣度 & 高生產力表現」

PQ 9100 配備高能量,高穩定的 Plasma 激發系統:

  • 自激式四繞組感應線圈,利於能量傳遞
  • 頻率 40.68 MHz
  • 穩定性優於 0.1%
  • 功率可高達 1700W

ICP-OES vs ICP-AES

ICP-OES 感應耦合電漿原子發射光譜法最初是被稱作Inductively Coupled Plasma – Atomic Emission Spectrometry(ICP​​-AES),但是由於後來ICP-MS的發展(同樣屬於一種原子發射光譜技術),並且AES也開始專用來稱呼俄歇電子能譜學(Auger Electron Spectroscopy),因此現在比較普遍縮寫是ICP-OES。

ICP-OES 作動原理

ICP-OES主要為偵測樣品中微量金屬元素,在進行樣品分析前,所有水溶液或固體樣品都需經適當酸消化方法處理。樣品溶液經霧化後,所形成之氣膠(Aerosol)藉由載流氣體輸送至電漿焰炬,經由無線電頻感應耦合電漿加熱,將各待測元素激發。由各激發原子或離子所發射出之光譜線,經由光柵(Grating)分光分解出各特定波長之發射譜線。各譜線強度最後再由光檢器(Photosensitive devices)予以偵測。

ICP-OES可以分析元素週期表中的70多個元素。

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