ICP-MS｜Analytik Jena｜感應耦合電漿質譜儀
強大的專利技術
PlasmaQuant® MS是市場上性能最優越的ICP-MS，其靈敏度可達到1.5Mcps/ppb。提供了超過75種元素極佳的檢測極限。對各種樣品從超微量到主要的各類元素進行快速且準確的分析。
英文產品型錄
強大的專利技術
PlasmaQuant® MS是市場上性能最優越的ICP-MS，其靈敏度可達到1.5Mcps/ppb。提供了超過75種元素極佳的檢測極限。對各種樣品從超微量到主要的各類元素進行快速且準確的分析。
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適用於現代實驗室的ICP-MS解決方案 PlasmaQuant MS系列的ICP-MS具備領先市場的高感度、最高的樣品通量和最低的分析成本，這三個優點相結合，為研究單位或常規實驗室提供巨大的競爭優勢。 |
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分析效率與優勢 PlasmaQuant MS系統的專利光譜儀設計可提供最低的檢測極限和穩定的分析品質，從而實現極短的積分時間和高稀釋倍數。這樣可確保長期穩定的分析結果，同時顯著降低維護成本。 高感度、掃描速度快和短積分時間的結合非常適合雷射剝蝕(Laser ablation)和Single particle analysis應用。此外，良好的質量分離技術也為同位素分析提供了最佳條件。 |
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操作軟體 ASpect MS 搭配PlasmaQuant MS系列ICP-MS的ASpect MS具備直觀的軟體工作介面，可檢索所有的分析數據、質譜掃描圖和校正數據，並且符合21 CFR Part 11。
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專利技術介紹
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ECO Plasma < 9L/min 從廢水到有機溶劑的各種樣品基質，PlasmaQuant MS系列的Eco Plasma可提供極其可靠的性能，同時降低運行成本。專門開發的電漿系統使ICP-MS能夠以 < 9 L/min 的氬氣運行
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90° 3D聚焦離子反射鏡-ReflexION ReflexION通過產生拋物線靜電場來反射離子束，不同大小和能量的分析物集中在四極桿上。這樣可確保整個質量範圍內所有分析物離子的訊號最大。光子和中性粒子穿過靜電場，並被真空系統去除。
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集成式碰撞反應池(iCRC)技術有效消除質譜干擾
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高解析度四極桿 PlasmaQuant MS能夠定量檢測所有已知的穩定同位素，其質量覆蓋範圍為3~260amu。具有真正3MHz四極桿的HD四極桿系統最短停留時間為50µs，掃描速度為5115 amu/sec。它為同位素分析、雷射剝蝕和單顆粒分析提供了最佳性能。
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全數字型偵測器(All Digital) AD偵測器系統在脈衝計數模式下提供11個order的分析範圍（0.1 – 1010 cps）。這樣就可以在一次測量中快速準確地進行從超微量到高濃度的多元素分析。 |
分析過程添加氮氣或氧氣-Nitrox Nitrox是一種全自動的質量流量控制附件，可以將氮氣或樣器添加到輔助電漿氣中。氮氣改善電漿中分析物的電離以及減少多原子干擾和基質效應來提升ICP-MS性能的常用氣體。加入氧氣可以直接分析有機溶劑，從而減少了樣品製備時間。 |
氣溶膠稀釋：高TDS樣品的高效分析 氣溶膠稀釋是一種簡單的方法，不需要使用複雜的樣品稀釋液即可在ICP-MS上測量高濃度的總溶解固體（TDS）樣品。Analytik Jena的氣溶膠稀釋技術可直接分析TDS值較高的樣品，例如海水。 |
升級您的ICP-MS
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LC/IC - ICP-MS LC-ICP-MS和IC-ICP-MS是測定各種領域（例如環境、食品或農業）應用的元素型態穩定且高度靈敏的方法。PlasmaQuant MS與PQ LC系列的結合提供極佳的精確度和準確性，可以滿足 < 1 ppt 砷或鉻物質的偵測極限。 PQ LC系列既可作為緊湊型常規LC系統用於有限的實驗室空間，也具有多種升級選項，例如樣品進樣器、柱溫箱或UV/Vis偵測器的溫度控制。
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Laser ablation 雷射剝蝕系統 PlasmaQuant MS串聯雷射剝蝕系統可以進行固態樣品直接分析，「全週期表」元素分析，協助您了解材料的主成分與微量雜質 以及 2D/3D mapping元素分佈探討。寬廣濃度範圍：從ppb~ %。 |
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