ICP-OES|感應耦合電漿原子發射光譜儀

高效能 ICP-OES:高解析度、快速分析、多元樣品適用性與空間最佳化

高解析度與寬光譜範圍: 本 ICP-OES 儀器提供 2pm (0.002nm) 的高光譜解析度,並涵蓋 160nm 至 900nm 的寬廣譜線範圍,確保精確的元素分析能力。

高效便捷: 設備從啟動到可使用不超過 10 分鐘,大幅縮短準備時間。內建相機可即時監控電漿火炬,確保操作穩定性。

多功能分析: 單次分析即可同時獲得軸向與徑向觀測數據,搭配軟體自動排序元素譜線功能,有效加速分析流程與提高效率。

廣泛樣品適用性: 具備優異的樣品適應性,可處理氫氟酸、高有機相及高鹽類樣品。此外,功率可在 700W 至 1700W 之間自由調整,滿足不同樣品的分析需求。

節省實驗空間: 儀器設計緊湊,僅需 60 平方公分的實驗空間,有效利用實驗室有限的空間。

PlasmaQuant 9200系列特色

這是一款緊湊型光學發射光譜儀,採用感應耦合電漿技術進行多元素分析,配備高解析度CCD-Array光學系統,並可由電腦控制,另外提供選配自動進樣。

DUAL View PLUS = 在同一方法中同時進行軸向和側向電漿觀測,搭配訊號衰減模式,提供完整的線性工作範圍,方便使用者分析從低ppb到百分比範圍等涵蓋低濃度和高濃度的元素。

市場頂尖光譜解析度,減少光譜處理

標準6pm解析度分析結果

≤ 5.0 pm for Au 197.744 in Copper

高階2pm解析度分析結果

≤ 3.5 pm for Au 197.744 in Copper

長期氬氣消耗低於市面上其他廠牌

輕鬆拆卸炬管設計,減少炬管破裂並增加實驗流暢度

V-Shuttle Torch設計:

垂直設計有更佳的RSD與背景值,延伸分析範圍,還不需要稀釋樣品。

完全由熱穩定性與化學耐性材質製造,內建氣體管路連接口,提高安全性、精準度與使用年限。

根據不同樣品可調整高度來減少鹽粒生成與沉積。

獨特軟體功能,增加數據確定性。

優異的背景校正能力: 針對鈾 (U) 等特殊元素,即使其訊號(紅色)與鄰近光譜線的間距僅有 0.4 nm,系統也能自動擬合曲線式的全域基線 (ABC,綠色),精準追蹤並適應複雜的背景光譜。

寬廣的光譜顯示與評估範圍: 儀器能顯示並評估目標發射線周圍大範圍的光譜區域,便於進行詳細的分析與干擾評估。

多元的訊號積分模式: 可實現不同的訊號積分模式,包含:

峰值模式 (Peak mode): 適用於追求最佳偵測極限的應用。

光譜模式 (Spectrum mode): 可同時評估多條發射譜線,提高分析效率與彈性。