粒徑分析範圍：0.25 um 至 3500 um
樣品之間自動正吹與逆吹避免交叉污染
一對多採樣系統，取得多條產線粒徑分析數據
當雷射粒徑的使用者要將設備架設於現場，都會擔心現場的環境不如實驗室的穩定，是否會去影響到分析的數據。
我們比較實驗室等級的雷射粒徑分析儀HELOS與運用於生產現場的MYTOS對同一批產品分析的粒徑分布結果顯示，即使架設在生產現場，Sympatec的雷射粒徑分析儀仍然能持續產出高準確性的粒徑分析結果。
我們保留實驗室等級雷射粒徑分析儀的主要元件，但是為了可以架設於現場，加上避免現場的環境影響，我們將整個系統封裝起來，加上額外的乾淨氣路，最重要的是設備可以透過工業通訊方式自動分析數據並進行回傳。
但到這邊只解決了分析的部分，當我們在實驗室的時候，要取得具代表性的樣品，要仰賴實驗室的取樣人員協助，但是在巨大的廠區，不同的產線以及現場的環境，我們可能會因為人力有限的關係減少了取樣的次數，為此MYTOS提供了可以應付各種狀況的自動取樣裝置，讓設備在現場可以自行取得具有代表性的樣品進行粒徑分析。
