首頁 利泓專欄 ICP-OES/ICP-MS系列應用文章 5分鐘看完幾個ICP分析建議 – 如何預防和處理樣品分析錯誤(下)
這篇文章我們想讓你知道的是
你是否有注意過日常分析大約有多少樣品需要重新測量? 根據調查,重測樣品佔實驗室年平均8個工作天的時間,這也表示會使用更多的儀器耗材和人力成本。其實我們可以透過定期的儀器使用檢查去減少錯誤的發生,並且依循異常的分析結果判斷可能的故障源頭。
我們在上集整理了儀器相關的問題來源,這集我們接續討論樣品會造成的干擾有哪些?
還沒看過上集嗎?>>>如何預防和處理樣品分析錯誤(上)
1. 光譜干擾
ICP-OES的波長範圍涵蓋上萬條原子譜線與離子譜線,有時候非目標元素所放射出的譜線恰好干擾你想看的譜線,這種時候我們就會得到偏高的錯誤結果。通常在分析比較複雜的樣品時會遇到這種困擾。
我應該如何做?
2. 檢量線問題
手動配製檢量線總會有發生失誤的時候,可能的來源有:
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延伸閱讀:檢量線配製可以更簡單,全自動配標儀MiniLab-i
3. 空白/標準品/樣品的汙染
汙染可能源自於:
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延伸閱讀:ICP/ICP-MS背景值太高? 微量分析,你必須知道的注意事項
4. 樣品前處理
有時候我們過於專注在分析的過程,反而忽略了前處理的重要性。面對特定元素應注意必須使用合適的酸液去消化,例如鉑Pt族金屬應使用HCl和HNO3。除此以外,也要避免使用的酸液是否會和目標元素產生反應,像是硫酸就會和鋇Ba、鉛Pb產生沉澱。
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5. 複雜基質樣品
樣品中含有過多的易離子化元素(easily ionizable elements, EIE),例如鈉Na、鉀K、鈣Ca、鎂Mg,會造成這些元素測值過高。
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6. 樣品濃度超出檢量線範圍
當樣品值超出檢量線範圍時會導致測值不準確,分析結果不得記錄在報告中。
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ICP-MS感應耦合電漿質譜儀 |
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ICP-OES感應耦合電漿原子放射光譜儀 |
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