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雷射粒徑分析儀|Sympatec|Laser Particle Size Analyzer

雷射繞射粒徑分析原理至今已經發展超過30年,並廣泛應用於實驗室與工廠中,以離線或是線上的方式針對氣溶膠、懸浮液、乳液與噴霧等樣品類型進行分析。

雷射繞射是雷射光與粒子之間的一種交互作用,其他還有折射、反射與吸收等。透過米式(Mie)與費式(Fraunhofer)的計算可以得到粒徑的大小。

舉球型顆粒的繞射圖案為例: 

中心點至第一個環的距離r0取決於粒子的大小,並透過光偵測器取得繞射光的強度分布。只要粒子保持運動且粒子間的繞射圖案可以平均化,就可以在多個粒子上同時進行繞射。

根據安裝場所與應用目的,利泓科技代理Sympatec可以提供乾式量測、濕式量測、乾溼二合一量測等方式,同時在相同的效能基礎上分別提供離線設備給實驗室進行品質管制以及提供線上設備直接應用於現場的製程監控:

氣流分散式乾法雷射繞射粒徑量測設備

量測範圍:0.1um to 3500um

應用於樣品/產品本身即為乾燥的粉末,例如藥粉API、奶粉、咖啡粉或水泥粉等,特別是高靜電、高密度或具磁性的樣品類型,例如:PTFE、磁性材料粉末。都可以確保樣品得到更均勻的分散。

一些特殊的應用如吸入劑的粒徑分布研究或者是噴霧噴嘴的設計研究都需要以乾式量測方法進行以更符合實際狀況。

大體積濕法雷射繞射粒徑量測設備 

量測範圍:0.1um to 3500um

應用於樣品最終應用於液態的模式,例如:顏料、塗料(ex:碳酸鈣粉末)、藥廠API半固形物(ex:塞劑、栓劑)、乳化原物料(ex:可可粉)等。

重力分散式乾法雷射繞射粒徑量測設備 

量測範圍:1um to 8750um

應用於流動佳的大顆粒乾燥樣品,例如:結晶粉末、噴霧乾燥粉末等

乾濕二合一雷射繞射粒徑量測設備

量測範圍:0.1/1/10um < x < 1000/2000/3500um 

可在相同的設備上進行乾法與濕法的量測,簡單透過面板一鍵式即可以切換。

典型的例子:水泥的量測,研磨之後會需要以乾法了解的水泥粉末是否有達到規範,在與水混和之後也會需要濕法了解水泥的懸浮是否達到預期。

噴霧研究專用雷射繞射粒徑量測設備 

量測範圍:0.25um to 1750um 

針對噴霧用噴嘴的研究,例如噴漆、農藥噴灑、個人用品噴霧罐(鼻塞噴劑、爽身喷霧)等。

可調整的噴霧角度讓研究人員可以模擬實際的狀況,透過粒徑量測數據更可以進行噴嘴的優化,確保噴霧的內容可以均勻的噴灑。

吸入劑研究專用雷射繞射粒徑量測設備 

量測範圍:0.25um to 1750um 

可應用於氣溶膠類型的樣品,例如MDIs(Metered dose inhaler;定量吸入劑)、DPIs(Dry powder inhaler;乾粉吸入劑)與霧化器研究等。

微量濕法雷射繞射粒徑量測設備 

量測範圍:0.1mm to 3500um 

可應用於珍貴的微量樣品濕法量測,提供6mL與50mL兩種Cuvette給使用者,輔以攪拌與超音波震盪方式。

微量乾法進樣配件 

進樣量:ug to mg 

可應用於微量樣品的乾法量測進樣器,進樣量為微克至毫克等級。特別適合珍貴或者毒性的樣品,可與氣體分散結合。

線上乾法雷射繞射粒徑量測設備 

量測範圍:0.25um to 3500um

具備與實驗室設備相同的量測效果,結合專用的取樣器,可以進行產區多條生產線的online或是inline分析,對於藥廠的客戶群,亦有符合GMP的版本。

比較online與offline的結果,呈現一致的粒徑量測結果。

案例分享:安裝示意圖,透過取樣配件對複數產線進行監控

案例分享:水泥業線上監控,分辨樣品的粒徑分布。

線上監控可以及時發現產線發現問題:粒徑分布網大顆粒偏移導致相對表面積減小,可能會使水泥超出規範。

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