Image

ICP-OES│Analytik Jena|感應耦合電漿原子放射光譜儀

市場上解析度最高的ICP-OES
> PlasmaQuant® PQ 9000 系列

High-Resolution Optics

最高的解析度+最優異的光學性能 

「提高分析能力是根本,提高解析度是關鍵」,PQ 9000高解析度ICP-OES的光譜解析度最佳可達0.002 nm@200 nm,是目前市場上解析度最高的ICP-OES。高解析度能顯著提高訊噪比並改善BEC(背景等效濃度)。同時,PQ 9000-Series採用原裝的卡爾‧蔡司光學系統,波長範圍涵蓋160~900 nm,可提供超過43,000條發射光譜,並具有<0.4 pm的波長準確度。

  • 最多的發射譜線數量
  • 克服光譜干擾實現精準的分析數據
  • 使用實際樣品測得最低檢測極限開發穩定的方法

 

   

V Shuttle Torch

可拆卸式V型梭狀炬管

垂直矩管的設計可防止水平炬管容易產生的鹽分、碳粒的堆積,能提高有機樣品和高鹽樣品的穩定性。其緊湊、可拆卸的梭式設計,加上內部氣體連接設計,完全實現方便的安裝即可使用,提高測量準備度並簡化方法的修改步驟。V Shuttle Torch自動校正功能確保每一次分析的再現性。

  • 在任何日常工作中都具優越的易用性
  • 對高基質樣品有特殊的耐受性
  • 分析性能良好
  • 維護與耗材成本低
  • 生產力的提高

 

   

Dual View PLUS

雙向觀測技術

PQ 9000高解析度ICP-OES採用頂部軸向+側面側向的雙向觀測設計,能滿足不同濃度(ppb~%)的同時測量,保證其靈敏度和檢測極限。同時具備全濃度覆蓋、無需分組測量、無需稀釋等優勢。彈性使用軸向、側向、軸向Plus與側向Plus這四種觀測方式進行測量同一個樣品,實現個個元素濃度範圍不同的測定要求。

PLUS模式自動衰減訊號強度進一步調整每條發射譜線的靈敏度,此功能提高方法的靈活性從而提高分析效率。另外,通過軸向觀測,能捕獲最大光強度,同時採用冷錐氬氣反吹消除尾焰幹擾,氬氣對光室和檢測器的持續吹掃還能消除空氣和水分等對紫外光的吸收。

  • 最寬的濃度線性工作範圍
  • 不需要消耗額外的氬氣進行尾焰吹掃
  • 提高所有應用領域的生產力
  • 為實驗室操作人員帶來更多便利性

   

High-Frequency Generator

高能量、高穩定的Plasma激發系統 

PQ 9000高解析度ICP配備高能量、高穩定的Plasma激發系統,包含自激式、利於能量傳遞的四繞組感應線圈、達40.68MHz頻率、穩定性優於0.1%、高達1700W的功率。

  • 複雜基質耐受性極高,增加應用的廣度
  • 操作簡單與靈活的方法優化
  • 卓越的RSD與精確度
  • 顯著提高的生產力

 

 

 

ICP-OES 感應耦合電漿原子放射光譜儀 │ PlasmaQuant® PQ 9000 Series

立即與利泓聯繫,請填寫以下資訊,我們將請專員與您聯繫。