ICP –OES
感應耦合電漿原子放射光譜儀

 感應耦合電漿原子發射光譜儀
ICP-OES

 
商品描述:
  • 低於11L/min的Ar氣體使用量,大幅降低使用成本
  • 採用高精度氣體質量流量控制器可精確至0.001L/min,提供正確且穩定的氣體流速
  • 全電腦軟體控制超過230個儀器參數設定
  • 採Simplex方式電腦最佳化操作條件搜尋、設定、速度快、穩確性佳
  • 氣體經由質量流量控制器提供精確、正確且穩定的氣體流速
  • 序列式(Sequential)光學構造,信號強,靈敏度及偵測極限佳
  • 分光器光學系統為 Czerny-Turner 設計,可提供最佳之光學解析度
  • 具有內建式至少32000條光譜圖譜資料庫,可隨時比較可能之干擾譜線
  • 可搭配Ar氣體潤濕氣,可提高偵測樣品對鹽類容忍度達40%
  • 搭載Plasma Cam電漿觀測系統及PIP石英火炬保護系統
  • All-in-one 機型設計,purge 模組及冷卻模組均內建於機體中,節省空間,系統穩定
  • 可全系統真空、自動控溫光學系統,光學穩定性高
  • 採雙 PMT 設計,個別獨立光區之偵測靈敏度更高,並可擴充為雙光路光學系統,分離光區增加感度並可模擬同步式功能
  • Simplex 方式電腦最佳化操作條件搜尋、設定,速度快、準確度佳 
     

軟體:

配件:

 

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